Вы используете устаревший браузер.
Чтобы использовать все возможности сайта, загрузите и установите один из этих браузеров:
Google ChromeOperaSafariMozilla FirefoxInternet explorer 8Internet explorer 9

ВНИМАНИЕ!

Новый адрес редакций журналов Колодезный пер., 2 А.

ООО «Издательство «Инновационное машиностроение»

КНИГИ Прайс-лист
ЖУРНАЛЫ Прайс-лист

Книги и журналы, просмотренные ранее

Все статьи автора в журнале: Болбуков В.П.

  1. Осаждение металлических и нитридных покрытий на изделиях сложной геометрической формы
    Deposition of metal and nitride coating on articles of complex geometric shapes

    Номер: 2011 / 12

    Григорьев С.Н. | Grigoriev S.N. | Волосова М.А. | Volosova M.A. | Метель А.С. | Metel A.S. | Мельник Ю.А. | Melnik Y.A. | Болбуков В.П.Bolbukov V.P.

    Авторы статьи
    Authors

    Григорьев С.Н.
    Grigoriev S.N.

    Волосова М.А.
    Volosova M.A.

    Метель А.С.
    Metel A.S.

    Мельник Ю.А.
    Melnik Y.A.

    Болбуков В.П.
    Bolbukov V.P.


    Осаждение металлических и нитридных покрытий на изделиях сложной геометрической формы

    Показано, что для осаждения покрытий на диэлектрики используется источник атомов металла в смеси с быстры­ми молекулами газа, образованными при перезарядке ускоренных ионов в рабочей камере. Атомы металла образуются при распылении ионами мишени на дне полого катода внутри источника. Нитридные покрытия, непрерывно бомбарди­руемые молекулами с энергией, регулируемой от 10 до 300 эВ, при использовании смеси аргона с азотом осаждаются со скоростью до 4 мкм/ч.

     


    Ключевые слова

    мишень, распыление, пар, покрытие, осаждение, быстрые молекулы

    Deposition of metal and nitride coating on articles of complex geometric shapes

    For coating deposition on dielectrics is used a source of metal atoms and fast gas molecules produced due to charge exchange collisions of accelerated ions in a processing chamber. The metal atoms are produced due to ion sputtering of a target placed at the bottom of the hollow cathode inside the source. When a mixture of argon and nitrogen is used, nitride coatings are produced with deposition rate up to 4 p/h, the coatings being interruptedly bombarded by molecules with energy ngulatedfrom 10 to 300 eV


    Keywords

    target, sputtering, vapor, coating, deposition, fast molecules

Идет загрузка
НАЗАД
Для перехода на предыдущую страницу используйте эту кнопку