Издательство
Каталог
Авторам
Рекламодателям
КонтактыВНИМАНИЕ!
Новый адрес редакций журналов Колодезный пер., 2 А.
ООО «Издательство «Инновационное машиностроение»
- КНИГИ Прайс-лист
- ЖУРНАЛЫ Прайс-лист
Книги и журналы, просмотренные ранее
Статьи автора
К последнему номеру журналаВсе статьи автора в журнале: Гнедовец А.Г.
- Импульсное лазерное осаждение тонкопленочных покрытий с применением капельной заслонкиPulsed laser deposition of thin-film coatings with the application of a droplet shutterАвторы статьиAuthorsФоминский В.Ю.Fominsky V.Y.Романов Р.И.Romanov R.I.Гнедовец А.Г.Gnedovets A.G.Кошманов В.Е.Koshmanov V.E.
Импульсное лазерное осаждение тонкопленочных покрытий с применением капельной заслонки
Разработана двухмерная компьютерная модель разлета и осаждения лазерно-инициированного потока атомов в камере, содержащей дисковую заслонку для улавливания капельной фракции. Модель позволяет варьировать состав и давление газовой среды, рассеивающей атомарный поток в теневую область, проводить расчет важных параметров осаждаемого потока атомов на различных участках поверхности основы. Результаты моделирования использованы для объяснения особенностей экспериментально выявленного структурообразования покрытий WSex, сформированных импульсным лазерным осаждением с применением заслонки.
Ключевые слова
импульсное лазерное осаждение, капли, наноструктура, компьютерное моделирование, диселенид вольфрама.
Pulsed laser deposition of thin-film coatings with the application of a droplet shutter
A two-dimensional computer model of expansion and deposition of the laser-initiated flow of atoms in the camera containing a disk shutter for the catching of the droplet fraction is developed. The model makes it possible to vary composition and pressure of the gaseous medium which scatters the atomic flow into the shadowed region, and to conduct the calculations of the important parameters of the deposited flux of atoms in different sections of the surface of the substrate. The results of simulation are used for explaining the special features of the experimentally revealed structure of WSex coatings formed by pulsed laser deposition with the application of the shutter.
Keywords
pulsed laser deposition, drops, nanostructure, computer simulation techque, diselenine of tungsten.
- Компьютерное моделирование процесса ионно-имплантационной обработки пластин импульсной лазерной плазмой, содержащей одно- и двухзарядные ионыАвторы статьиAuthorsНеволин В.Н.Nevolin V.N.Фоминский В.Ю.Fominsky V.Y.Гнедовец А.Г.Gnedovets A.G.Лаврухин Д.В.Lavruhin D.V.
Компьютерное моделирование процесса ионно-имплантационной обработки пластин импульсной лазерной плазмой, содержащей одно- и двухзарядные ионы
Представлены результаты компьютерного моделирования методом «частиц в ячейках» разлета импульсной лазерной плазмы, содержащей одно- и двухзарядные ионы, между плоскопараллельными электродами – лазерной мишенью и обрабатываемой пластиной. Для реализации высокоэнергетической ионной имплантации к обрабатываемой пластине подключали высоковольтный импульс отрицательной полярности с заданной формой. Показана возможность применения модели для выявления физической картины процессов, протекающих в плазме и обусловливающих формирование высокоэнергетического ионного пучка при варьировании свойств плазмы и режимов включения высоковольтного импульса. Результаты расчета энергетического спектра ионов, бомбардирующих пластину, использовали для моделирования концентрационного профиля распределения имплантированных ионов по глубине основы.
Ключевые слова
Keywords
- Компьютерное моделирование импульсного лазерно-инициированного потока атомов при нанесении покрытий в вакууме и инертном газеАвторы статьиAuthorsНеволин В.Н.Nevolin V.N.Фоминский В.Ю.Fominsky V.Y.Гнедовец А.Г.Gnedovets A.G.Романов Р.И.Romanov R.I.Костычев И.В.Kostichev I.V.
Компьютерное моделирование импульсного лазерно-инициированного потока атомов при нанесении покрытий в вакууме и инертном газе
Разработана двухмерная компьютерная модель, описывающая разлет импульсного лазерно-инициированного парового потока от бинарной мишени в вакууме и инертном газе заданного состава и давления. На примере импульсного лазерного осаждения твердосмазочных покрытий WSex исследовано влияние инертного газа (аргона) на энергетические и угловые характеристики осаждаемого потока атомов W и Se. Применение компьютерного моделирования позволило выявить основные механизмы, определяющие формирование химического состава и структуры таких покрытий при импульсном лазерном осаждении в вакууме и инертном газе.
Ключевые слова
Keywords
- Компьютерное моделирование роста тонкопленочных покрытий, сформированных импульсным лазерным осаждением при разных давлениях инертного газаАвторы статьиAuthorsГнедовец А.Г.Gnedovets A.G.Фоминский В.Ю.Fominsky V.Y.Романов Р.И.Romanov R.I.Мацнев Н.П.Matsnev N.P.
Компьютерное моделирование роста тонкопленочных покрытий, сформированных импульсным лазерным осаждением при разных давлениях инертного газа
Показана возможность применения кинетического метода Монте-Карло для моделирования роста тонкопленочных покрытий при импульсном лазерном осаждении. Рассмотрены случаи низкотемпературного осаждения потока атомов, исключающие транспортные процессы на поверхности и в объеме растущего покрытия и различающиеся условиями падения атомов на его поверхность. В результате сравнительного анализа установлено удовлетворительное качественное совпадение характера структурообразования модельных и реальных покрытий, созданных импульсным лазерным осаждением при различных давлениях инертного газа в камере осаждения.
Ключевые слова
Keywords
- Расчет дозовых и энергетических характеристик ионного облучения при ионно-ассистированном осаждении покрытий из импульсной лазерной плазмыАвторы статьиAuthorsХороманская А.В.Horomanskaya A.V.Фоминский В.Ю.Fominsky V.Y.Гнедовец А.Г.Gnedovets A.G.Неволин В.Н.Nevolin V.N.
Расчет дозовых и энергетических характеристик ионного облучения при ионно-ассистированном осаждении покрытий из импульсной лазерной плазмы
Методом «частиц в ячейках» проведено моделирование разлета импульсной лазерной плазмы в интенсивном внешнем электрическом поле, создаваемом подключением высоковольтных импульсов отрицательной полярности к обрабатываемому изделию. С помощью компьютерной модели исследованы динамика ионной и электронной компонент плазмы, особенности формирования ионного пучка, его энергетические и дозовые характеристики в зависимости от параметров ускоряющих электрических импульсов и времени их включения. Расчет таких характеристик ионного облучения важен при выборе режимов ионно-ассистированного осаждения покрытий с улучшенными свойствами.
Ключевые слова
Keywords
